真空PVD镀膜设备
批次式光学IBS镀膜设备
- IBS PVD Series
- 使用高能量离子源(Ion Beam)轰击成膜
- 可搭配表面改质、清洁及致密离子源模块
- 搭配光学实时监控(Real Time Monitor)反馈精准修正膜层
- 有效镀膜面积：直径90mm
- 基板放置尺寸和片数：直径＜90mm ×7 pcs
- Macleod Simulation
Application：
- 5G光通讯产业
- 3D Sensing- IR Cut/滤蓝光
- 3D 红外窄带带通滤光片
- 3D人脸辨识红外滤光片
Cluster真空PVD镀膜设备
- Cluster PVD Series
- GaAs 、GaN、 SiC 组件EMI镀膜
- Metal / ITO、AZO、金属氧化物、非金属氧化物镀膜
- 可搭配表面改质、清洁及致密离子源模块
- 工作温度：常温~450°C
Application：
- 用于5G光通讯、半导体、显示器面板、触控面板及光学镀膜触控面板OGS 关键设备及制程等产业的各类玻
- 璃基板及软性基板 手机、平板、笔记本电脑应用
批次式真空PVD镀膜设备
- BSVL PVD Series
- 半导体Metal 电极、MEMS镀膜SiO2、SiNx、Metal及金属氧化物
- ITO / Metal / SiO2 + ITO Film镀膜
- Anti-Reflection- 2AR / 4AR / 6AR
Application：
- 用于半导体、被动组件、显示器面板、触控面板及光学镀膜触控面板OGS 关键设备及制程等产业的各类玻璃基板及软性基板
- 手机、平板、笔记本电脑、大尺寸电视应用
可挠性基板真空PVD镀膜设备
- R2R PVD Series
- ITO / Metal / SiO2 + ITO Film镀膜
- Index Matching + ITO Film
- 专业真空镀膜技术关键模块
- 自主技术在线实时光学监测及校准模块
- 低温制程技术
Application：
- 医疗用抗菌奈米银产业、柔性电池产业及柔性电路板产业
- 节能膜、抗反射膜、高反射膜、抗反射保护膜
- 柔性电池、柔性太阳能(CIGS/OLED)、显示器
水平式真空PVD镀膜设备
- ASH PVD Series
- CIGS / Metal / AZO / AL Film 镀膜
- Index Matching + ITO Film
Application：
- 用于太阳能、EMI、装饰镀膜等关键设备及制程等产业的各类玻璃基板及塑料基板
- 手机、平板、笔记本电脑、大尺寸电视应用
垂直式真空PVD镀膜设备
- ASV PVD Series
- ITO / Metal / SiO2 + ITO Film 镀膜
- Index Matching + ITO Film
- Anti-Reflection- 2AR / 4AR / 6AR / 12AR
- 可单面或双面同时成膜
Application：
- 用于显示器面板、触控面板及光学镀膜触控面板OGS 关键设备及制程等产业的各类玻璃基板及软性基板
- 手机、平板、笔记本电脑、大尺寸电视应用
倾斜式真空PVD镀膜设备
- AST PVD Series
- ITO / Metal / SiO2 + ITO Film 镀膜
- Index Matching + ITO Film
- Anti-Reflection- 2AR / 4AR / 6AR / 12AR
Application：
- 用于显示器面板、触控面板及光学镀膜触控面板OGS 关键设备及制程等产业的各类玻璃基板及软性基板
- 手机、平板、笔记本电脑、大尺寸电视应用
真空回转垂直式PVD镀膜设备
- ASVRU PVD Series
- ITO / Metal / SiO2 + ITO Film 镀膜
- Index Matching + ITO Film
- Anti-Reflection- 2AR / 4AR / 6AR / 12AR
Application：
- 用于显示器面板、触控面板及光学镀膜触控面板OGS 关键设备及制程等产业的各类玻璃基板及软性基板
- 手机、平板、笔记本电脑、大尺寸电视应用
真空CVD镀膜设备
Cluster真空 PECVD 镀膜设备
- Cluster CVD Series
- 工作温度：常温~350°C
- 电源可搭配MF、RF、DC及Micro Wave Power Supply
- SiOx、 Al2O3 、SiNx、a-Si…等其他薄膜
- 可搭配表面改质、清洁及致密离子源模块
- 不同形状的均匀沉积与良好的覆盖率
- 高镀膜速率
- 搭配电浆光谱分析仪做制程电浆监控及控制
Application：
- 5G光通讯 、半导体、TFT及太阳能电池吸收层等产业
- 防刮显示屏幕
- 封装层、绝缘层
- 产品的耐磨薄膜
LPCVD 镀膜设备
- ASH CVD Series
- 温度范围：常温~300 °C
- 热裂解反应镀率快速
- SiOx、 Al2O3 、SiNx、a-Si、TCO…等其他薄膜
- 阶梯覆盖能力强和高纯度沉积
- 可处理大面积基板
Application：
- 半导体、TFT及太阳能电池电极层等产业
- OLED面板Mask Frame保护层应用
In-Line PECVD 镀膜设备
- ASH PECVD Series
- 温度范围：常温~350 °C
- 电源可搭配MF、RF、DC及Micro Wave Power Supply
- SiOx、 Al2O3 、SiNx、a-Si…等其他薄膜
- 可降低Ion Bombardment影响
- 高镀膜速率
- 可处理大面积基板
Application：
- 高效率 HIT太阳能电池
- 低光衰高效率非晶硅太阳能电池
自动化设备
自动光学对位检测
- 二维条形码读取
- 快速搜寻特征点位置
- CCD自动搜寻特征点，进行测试夹头XY轴及θ角补正定位
- 定位精度±0.02mm
自动焊接机
- 采用高精JAPAN UNIX焊钖模块
- 线马双动子，安装双焊钖模块，可安装不同焊接头，进行不同型式的焊接，分工动作，提高产能
- 快速搜寻特征点位置
- CCD自动搜寻特征点，进行焊接头XY轴及θ角补正定位
- 定位精度±0.02mm
- 焊后CCD外型检查
- 激光高度搜描检查
- 焊后电讯检查